工場立地法施行規則
平成24年6月15日 改正
第2条
【生産施設】
法第4条第1項第1号の生産施設は、次の各号に掲げる施設(地下に設置されるものを除く。)とする。
①
製造業における物品の製造工程(加工修理工程を含む。)、電気供給業における発電工程、ガス供給業におけるガス製造工程又は熱供給業における熱発生工程を形成する機械又は装置(次号において「製造工程等形成施設」という。)が設置される建築物
第3条
【緑地】
法第4条第1項第1号の緑地は、次の各号に掲げる土地又は施設(建築物その他の施設(以下「建築物等施設」という。)に設けられるものであつて、当該建築物等施設の屋上その他の屋外に設けられるものに限る。以下「建築物屋上等緑化施設」という。)とする。
第4条
【緑地以外の環境施設】
法第4条第1項第1号の緑地以外の主務省令で定める環境施設は、次の各号に掲げる土地又は施設であつて工場又は事業場の周辺の地域の生活環境の保持に寄与するように管理がなされるものとする。
第6条
【特定工場の新設等の届出】
2
第7条
【工業団地共通施設】
法第6条第1項第5号の緑地、環境施設その他の主務省令で定める施設(以下「工業団地共通施設」という。)は、工業団地内の次の各号に掲げる施設(工業団地に設置される工場又は事業場の敷地内にあるものを除く。)とする。
⊟
参照条文
別表第二
【第六条、第八条関係】
一 生物化学的酸素要求量又は化学的酸素要求量として表示される有機性物質
二 浮遊物質
三 ノルマルヘキサン抽出物質
四 カドミウム及びその化合物
五 シアン化合物
六 有機りん化合物(ジエチルパラニトロフエニルチオホスフエイト(別名パラチオン)、ジメチルパラニトロフエニルチオホスフエイト(別名メチルパラチオン)、ジメチルエチルメルカプトエチルチオホスフエイト(別名メチルジメトン)及びエチルパラニトロフエニルチオノベンゼンホスホネイト(別名EPN)に限る。)
七 鉛及びその化合物
八 六価クロム化合物
九 ひ素及びその化合物
一〇 水銀及びアルキル水銀その他の水銀化合物
一一 水素イオン
一二 フエノール類
一三 銅
一四 亜鉛
一五 溶解性鉄
一六 溶解性マンガン
一七 クロム
一八 ふつ素
一九 大腸菌群
二 浮遊物質
三 ノルマルヘキサン抽出物質
四 カドミウム及びその化合物
五 シアン化合物
六 有機りん化合物(ジエチルパラニトロフエニルチオホスフエイト(別名パラチオン)、ジメチルパラニトロフエニルチオホスフエイト(別名メチルパラチオン)、ジメチルエチルメルカプトエチルチオホスフエイト(別名メチルジメトン)及びエチルパラニトロフエニルチオノベンゼンホスホネイト(別名EPN)に限る。)
七 鉛及びその化合物
八 六価クロム化合物
九 ひ素及びその化合物
一〇 水銀及びアルキル水銀その他の水銀化合物
一一 水素イオン
一二 フエノール類
一三 銅
一四 亜鉛
一五 溶解性鉄
一六 溶解性マンガン
一七 クロム
一八 ふつ素
一九 大腸菌群