特定工場における公害防止組織の整備に関する法律施行令

特定工場における公害防止組織の整備に関する法律（以下「法」という。）第2条の政令で定める業種は、次に掲げるとおりとする。

法第2条第1号の政令で定める施設は、大気汚染防止法施行令別表第一に掲げる施設（同表の一三の項に掲げる施設を除き、これらに相当する施設で鉱山保安法第2条第2項ただし書の附属施設に設置されるものを含む。）とする。

法第2条第1号の政令で定める工場は、次に掲げるとおりとする。

法第2条第2号の政令で定める施設は、水質汚濁防止法施行令別表第一第2号から第59号まで、第61号から第63号まで、第63号の3、第64号、第65号から第66号の2まで、第71号の5及び第71号の6に掲げる施設（同表第62号に掲げる施設で鉱山保安法第2条第2項の鉱山に設置されるものを除く。）とする。

法第2条第2号の政令で定める工場は、次に掲げるとおりとする。

法第2条第3号の政令で定める施設は、次に掲げるとおりとする。

法第2条第4号の政令で定める施設は、大気汚染防止法施行令別表第二の二に掲げる施設（これらに相当する施設で鉱山保安法第2条第2項ただし書の附属施設に設置されるものを含む。）とする。

法第2条第5号の政令で定める施設は、大気汚染防止法施行令別表第二に掲げる施設（これらに相当する施設で鉱山保安法第2条第2項ただし書の附属施設に設置されるものを含む。）とする。

法第2条第6号の政令で定める施設は、次に掲げるとおりとする。

法第2条第7号の政令で定める施設は、ダイオキシン類対策特別措置法施行令別表第一第1号から第4号まで及び別表第二第1号から第14号までに掲げる施設とする。

法第2条第7号の政令で定める工場は、前項に規定する施設のいずれかが設置されている工場とする。

法第3条第1項ただし書の政令で定める要件は、常時使用する従業員の数が二十人以下であることとする。

法第4条第1項の政令で定めるばい煙発生施設の区分は、次に掲げるとおりとする。

法第4条第1項の政令で定める汚水等排出施設の区分は、次に掲げるとおりとする。

公害防止管理者は、法第4条第2項の規定により、別表第二の中欄に掲げる施設の区分ごとに、それぞれ同表の下欄に掲げる者のうちから選任しなければならない。

法第5条第1項の政令で定める要件は、ばい煙発生施設及び汚水等排出施設が設置されている工場で排出ガス量が四万立方メートル以上であり、かつ、排出水量が一万立方メートル以上であること（当該工場においてばい煙並びに汚水及び廃液の処理を確実に行うことができるものとして主務省令で定める要件に該当する場合を除く。）とする。

法第7条第1項第1号の政令で定める区分は別表第三の中欄に掲げるとおりとし、同号の政令で定める資格は当該区分ごとにそれぞれ同表の下欄に掲げるとおりとする。

法第7条第1項第2号の政令で定める資格は、次の各号に掲げるとおりとする。

前条第2号又は別表第三の各項の下欄に規定する講習の実施に関し必要な事項は、主務省令で定める。

法第10条の政令で定める法令の規定は、湖沼水質保全特別措置法、特定水道利水障害の防止のための水道水源水域の水質の保全に関する特別措置法若しくはこれらの法律に基づく命令の規定又は大気汚染防止法、騒音規制法、水質汚濁防止法、振動規制法、湖沼水質保全特別措置法、特定水道利水障害の防止のための水道水源水域の水質の保全に関する特別措置法、ダイオキシン類対策特別措置法若しくはこれらの法律に基づく命令の規定に相当する鉱山保安法、ガス事業法、電気事業法若しくはこれらの法律に基づく命令の規定とする。

法第12条の2第1項の受験手数料の額は、次の各号に掲げる国家試験の区分ごとに、それぞれ当該各号に定めるとおりとする。

法に規定する都道府県知事の権限に属する事務のうち、騒音発生施設又は振動発生施設のみが設置されている工場に係る事務は市町村長が、次の各号に掲げる工場に係る事務はそれぞれ当該各号に掲げる市の長が行うこととする。この場合においては、法中この項前段に規定する事務に係る都道府県知事に関する規定は、市町村長又は市の長に関する規定としてそれぞれ市町村長又は当該各号に掲げる市の長に適用があるものとする。

この政令において主務省令は、環境大臣及び第1条に掲げる業種に属する事業を所管する大臣の発する命令とする。

一　水質汚濁防止法施行令別表第一（以下単に「別表第一」という。）第十九号に掲げる施設（トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを使用する染色又は薬液浸透の用に供するものに限る。）
二　別表第一第二十二号に掲げる施設（六価クロム化合物又は砒素化合物を使用する木材の薬品処理の用に供するものに限る。）
三　別表第一第二十三号の二に掲げる施設（トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを使用する自動式のフイルムの現像洗浄又は自動式の感光膜付印刷版の現像洗浄の用に供するものに限る。）
四　別表第一第二十四号に掲げる施設（ふつ素若しくはその化合物を含有する物質、ほう素若しくはその化合物又はアンモニア、アンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物を原料として使用する化学肥料の製造の用に供するものに限る。）
五　別表第一第二十五号に掲げる施設
六　別表第一第二十六号に掲げる施設（カドミウム若しくはその化合物、鉛若しくはその化合物又は水銀若しくはその化合物を含有する無機顔料の製造の用に供するものに限る。）
七　別表第一第二十七号に掲げる施設（水質汚濁防止法施行令第二条各号に掲げる物質（以下「有害物質」という。）又はこれらを含有する物質を原料又は触媒として使用する無機化学工業製品の製造の用に供するもの及び黄燐の製造の用に供するものに限る。）
八　別表第一第二十八号に掲げる施設（塩化ビニルモノマーの製造の用に供するものに限る。）
九　別表第一第二十九号に掲げる施設
十　別表第一第三十一号に掲げる施設（トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを原料として使用するフロンガスの製造の用に供するものに限る。）
十一　別表第一第三十二号に掲げる施設（トリクロロエチレン若しくはテトラクロロエチレンを原料として使用する有機顔料又は合成染料の製造の用に供するもの又は銅フタロシアニン系顔料の製造の用に供するものに限る。）
十二　別表第一第三十三号に掲げる施設（塩化ビニルモノマーを原料として使用する合成樹脂の製造の用に供するもの、トリクロロエチレン若しくはテトラクロロエチレンを溶剤として使用するふつ素樹脂の製造の用に供するもの、一・四—ジオキサンを溶剤として使用する合成樹脂の製造の用に供するもの又はポリエチレンテレフタレートの製造の用に供するものに限る。）
十三　別表第一第三十四号に掲げる施設（テトラクロロエチレンを含有する物質若しくは二—クロロエチルビニルエーテルを原料として使用する合成ゴムの製造の用に供するもの又はニトリル・ブタジエンゴムの製造の用に供するものに限る。）
十四　別表第一第三十五号に掲げる施設（二—クロロエチルビニルエーテルの製造の用に供するものに限る。）
十五　別表第一第三十七号に掲げる施設（トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、アクリロニトリル、テレフタル酸（カドミウム化合物を触媒として使用して製造するものに限る。）、メチルメタアクリレートモノマー、ウレタン原料（硝酸化合物を原料として使用して製造するものに限る。）、高級アルコール（一分子を構成する炭素の原子の数が六個以上のアルコールをいい、ほう素化合物を触媒として使用して製造するものに限る。）、キシレン（ほう素化合物を触媒として使用し、又はふつ素化合物を溶剤として使用して製造するものに限る。）、アルキルベンゼン（ふつ素化合物を触媒として使用して製造するものに限る。）若しくはエチレンオキサイドの製造の用に供するもの又はエチレンオキサイドを原料として使用する石油化学製品の製造の用に供するものに限る。）
十六　別表第一第三十八号の二に掲げる施設
十七　別表第一第四十一号に掲げる施設（トリクロロエチレン又はテトラクロロエチレンを使用する抽出の用に供するものに限る。）
十八　別表第一第四十三号に掲げる施設
十九　別表第一第四十六号に掲げる施設（有害物質若しくはこれらを含有する物質を原料若しくは触媒として使用し、又はトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン若しくは一・四—ジオキサンを溶剤として使用する有機化学工業製品の製造の用に供するものに限る。）
二十　別表第一第四十七号に掲げる施設（水銀若しくはその化合物、鉛若しくはその化合物若しくは砒素若しくはその化合物若しくはこれらを含有する物質を原料若しくは触媒として使用し、又はトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン若しくは一・四—ジオキサンを溶剤として使用する医薬品の製造の用に供するものに限る。）
二十一　別表第一第四十八号に掲げる施設（ほう素若しくはその化合物、ふつ素若しくはその化合物又はアンモニア、アンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物を原料として使用する火薬の製造の用に供するものに限る。）
二十二　別表第一第五十号に掲げる施設（トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン又は一・四—ジオキサンの試薬の製造の用に供するものに限る。）二十三　別表第一第五十一号に掲げる施設（トリクロロエチレンを使用する潤滑油の洗浄の用に供するものに限る。）
二十四　別表第一第五十三号に掲げる施設（硫化カドミウム、炭酸カドミウム、酸化鉛、ほう素若しくはその化合物若しくはふつ素化合物を原料として使用するガラス若しくはガラス製品の製造の用に供するもの又はトリクロロエチレン若しくはふつ素若しくはその化合物を使用する研摩洗浄の用に供するものに限る。）
二十五　別表第一第五十八号に掲げる施設（ほう素化合物を原料として使用するうわ薬原料の精製の用に供するものに限る。）
二十六　別表第一第六十一号に掲げる施設（コークスの製造又は転炉ガスの冷却洗浄の用に供するものに限る。）
二十七　別表第一第六十二号に掲げる施設（銅、鉛若しくは亜鉛の第一次製錬若しくは鉛若しくは亜鉛の第二次製錬、水銀の精製又はふつ素化合物を原料として使用するウランの酸化物の製造の用に供するものに限る。）
二十八　別表第一第六十三号に掲げる施設（液体浸炭による焼入れ、シアン化合物若しくは六価クロム化合物を使用する電解式洗浄、カドミウム電極若しくは鉛電極の化成又は水銀の精製の用に供するものに限る。）
二十九　別表第一第六十三号の三に掲げる施設
三十　別表第一第六十四号に掲げる施設（コークス炉ガス又はコークスの製造の用に供するものに限る。）
三十一　別表第一第六十五号に掲げる施設（クロム酸、ほう素若しくはその化合物、ふつ素若しくはその化合物又はアンモニア、アンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物による表面処理の用に供するものに限る。）
三十二　別表第一第六十六号に掲げる施設（カドミウム化合物、シアン化合物、六価クロム化合物、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、ほう素化合物、ふつ素化合物又はアンモニウム化合物、亜硝酸化合物若しくは硝酸化合物を使用する電気めつきの用に供するものに限る。）
三十三　別表第一第六十六号の二に掲げる施設
三十四　別表第一第七十一号の五に掲げる施設
三十五　別表第一第七十一号の六に掲げる施設